Intel jest na dobrej drodze do wprowadzenia na rynek 10 nm układów

Firma Intel poinformowała, że produkcja 10-nanometrowych procesorów jest możliwa przy wykorzystaniu litografii immersyjnej. Pierwsze tego typu układy mogą pojawić się na rynku już w 2015 roku.

Do niedawna sądzono, że produkcja 14-, czy 10-nanometrowych procesorów będzie możliwa tylko dzięki wykorzystaniu urządzeń pracujących w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Intel, który zainwestował w tę technologię ponad 4 miliardy dolarów (kupił akcje zajmującej się litografią holenderskiej firmy ASML) poinformował jednak podczas Intel Developer Forum 2012, że jest w stanie przejść na 10-nanometrowy proces w oparciu o wykorzystywaną już od dawna tzw. litografię immersyjną.

Niestety nie chciał zdradzić żadnych szczegółów poza tym, że w przypadku 14-nanometrowych chipów, które powinny trafić na rynek pod koniec przyszłego roku, wymagane będzie podwójne naświetlanie niektórych warstw, zaś w przypadku chipów 10-nanometrowych trzeba się liczyć z tym, że liczba takich warstw będzie rosła. Co więcej, niektóre z nich "zadowolą" się dopiero naświetlaniem czterokrotnym.

Mark Bohr z firmy Intel podkreśla, że wielokrotne naświetlanie wiąże się niestety ze zwiększeniem kosztów produkcji wafla krzemowego. Według niego przypadłość ta ma być jednak zrekompensowana wzrostem gęstości tranzystorów. W sumie więc koszty produkcji w przeliczeniu na pojedynczy tranzystor będą w dalszym ciągu spadać.

Pierwsze układy zbudowane w oparciu o 10-nanometrowy proces produkcyjny powinny się pojawić najwcześniej w 2015 roku. Intel poinformował ponadto, że prowadzi już również badania nad technologiami pozwalającymi tworzyć układy 7- i 5-nanometrowe.


Zobacz również